| [药品名称]： |
供应半导体硅片去膜/去胶/去蜡清 |
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| [招商区域]： |
沧浪区 |
| [产品性质]： |
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| [产品类别]： |
保健品 --微量元素 矿物质(营养补益) |
| [批准文号]： |
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| [生产单位]： |
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| [剂 型]： |
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| [产品规格]： |
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| [成 分]： |
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| [用法用量]： |
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| [产品性能]： |
提供各类半导体湿制程设备、硅片清洗机、石英/炉管清洗机、
硅片甩干机、显影机、蚀刻机、N2储存柜、自动供酸系统、
DIW在线加热装置；太阳能电池生产设备、硅料/块清洗机、
硅芯/棒清洗机、硅片制绒清洗机、磷硅玻璃清洗机；液晶清洗设备、
PR前清洗设备、 |
| [产品说明]： |
提供各类半导体湿制程设备、硅片清洗机、石英/炉管清洗机、
硅片甩干机、显影机、蚀刻机、N2储存柜、自动供酸系统、
DIW在线加热装置；太阳能电池生产设备、硅料/块清洗机、
硅芯/棒清洗机、硅片制绒清洗机、磷硅玻璃清洗机；液晶清洗设备、
PR前清洗设备、 |
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| 是否中标： |
未中标 |
| 代理要求: |
概述：本设备可用于半导体工艺中对2″~8″硅片进行去膜处理，该产品技术先进、一致性强，适用于规模生产。2．整台设备材料均为进口。3．本设备为双排槽构成，每排7槽，各设一套机械手，两排可独立同时完成相应的工序。4．本设备除装片和取片需人工外，其余工艺动作均可 |
| 可提供支持: |
概述：本设备可用于半导体工艺中对2″~8″硅片进行去膜处理，该产品技术先进、一致性强，适用于规模生产。2．整台设备材料均为进口。3．本设备为双排槽构成，每排7槽，各设一套机械手，两排可独立同时完成相应的工序。4．本设备除装片和取片需人工外，其余工艺动作均可 |
| 备注说明： |
概述：本设备可用于半导体工艺中对2″~8″硅片进行去膜处理，该产品技术先进、一致性强，适用于规模生产。2．整台设备材料均为进口。3．本设备为双排槽构成，每排7槽，各设一套机械手，两排可独立同时完成相应的工序。4．本设备除装片和取片需人工外，其余工艺动作均可 |
